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毕业论文答辩逐字稿

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我按“封面、背景、研究内容、三项工作、总结、致谢”的顺序来写;如果你的 PPT 页数更少,可以把相邻两页内容合并。

1 页:封面

尊敬的各位老师,大家好。

我是马航,我的毕业论文题目是《Bi 基准范德华材料的可控制备及其红外探测研究,指导教师是李庆研究员。

今天我的汇报将主要围绕四个部分展开。首先介绍研究背景与意义;其次介绍本文的整体研究思路;然后重点汇报三部分研究工作;最后对全文进行总结与展望。恳请各位老师批评指正。

2 页:研究背景与意义

首先是研究背景与意义。

随着国防安全、环境监测、光通信和智能感知等领域的快速发展,红外光电探测器正在朝着高速、高灵敏、低噪声、小型化和低功耗的方向持续发展。

在这样的背景下,范德华材料由于具有层状结构、界面悬挂键少、易于构建异质结构,以及优异的电子和光学性质,近年来在红外探测领域展现出了很大的应用潜力。

在众多范德华材料中,Bi 基材料尤其值得关注。这里面,Bi3O2.5Se2 兼具较高载流子迁移率、较强极性特征以及较好的环境稳定性,是一种很有潜力的新型二维半导体材料。

但是,这一材料目前还面临两个关键问题。第一个问题是,材料生长过程对氧分压和硒源释放比较敏感,稳定制备高质量样品并不容易。第二个问题是,现有器件工作更多集中在基础光响应层面,其在高速红外探测和新型感算一体器件中的潜力还没有被充分挖掘。

因此,围绕 Bi3O2.5Se2 开展可控制备和器件应用研究,既有材料生长方面的科学意义,也有红外探测应用方面的实际价值。

3 页:研究思路与主要内容

基于前面的分析,本文主要围绕两个核心问题展开。

第一个问题是,能不能建立一种更稳定、更安全、可重复性更好的方法,来实现 Bi3O2.5Se2 纳米片的可控制备。

第二个问题是,在获得高质量材料之后,能不能进一步通过器件结构设计,把这种材料在红外探测中的优势真正发挥出来。

围绕这两个问题,本文开展了三项工作。

第一项工作,是提出空间限域化学气相沉积方法,实现 Bi3O2.5Se2 纳米片的可控制备,并系统研究它的生长规律、能带特征和晶体结构。

第二项工作,是面向传统平面二维探测器响应速度慢的问题,设计了一种底部金属反射增强的垂直光电探测器。

第三项工作,是进一步基于热电子发射机制,构建宽带边缘检测器,实现从光电探测到边缘提取的一体化功能。

4 页:工作一,空间限域法制备 Bi3O2.5Se2

下面先汇报第一部分工作,也就是材料的可控制备。

针对已有方法中氧分压敏感、硒源释放不稳定,以及往往需要引入危险气体等问题,本文提出了一种基于固态源的空间限域 CVD 策略。

具体来说,我们利用 Bi2Se3 作为相对自调节的硒源,配合 Bi2O3 作为氧源,在云母衬底上构建空间限域生长环境。这个设计的核心目的,是让反应体系中的硒和氧化学势更加平衡,避免传统单质硒源“瞬间大量释放”带来的不稳定问题。

在这个基础上,我们进一步系统优化了前驱体比例、生长温度和载气流量,去寻找稳定获得目标相 Bi3O2.5Se2 的工艺窗口。

这部分工作想解决的,不只是“长出来”,而是实现可控、可重复、可用于后续器件制备的高质量生长。

5 页:工作一,材料结果与结论

从结果上看,这一策略取得了比较理想的效果。

首先,在相调控方面,随着 Bi2Se3 供给量增加,产物呈现出由 Bi2O2Se Bi3O2.5Se2 转变的趋势,说明我们确实能够通过工艺参数调控目标物相。

其次,在优化条件下,也就是 620 摄氏度、前驱体比例 1 2 的条件下,我们成功制备出了高质量的 Bi3O2.5Se2 单晶纳米片。所得样品最大横向尺寸可达 425 微米,厚度可以在约 3 43 纳米范围内调控,表面粗糙度约为 0.3 0.5 纳米,表现出原子级平整的表面质量。

进一步的光学和能带表征表明,这种材料的间接带隙约为 1.14 电子伏特,与近红外探测需求是匹配的;UPS 结果显示其功函数约为 4.20 电子伏特,费米能级靠近导带,说明它具有典型的 n 型半导体特征。

最后,通过 AC-STEM 和电子衍射分析,我们从原子尺度进一步确认了材料的层状结构和优异单晶质量。

所以,第一部分工作的结论是:本文建立了一种相对简便、安全且可重复的空间限域 CVD 方法,为后续器件研究提供了可靠的材料基础。

6 页:工作二,垂直光电探测器设计

第二部分工作聚焦于器件结构设计。

传统二维材料平面光电探测器虽然结构简单,但是普遍存在一个问题,就是载流子需要在沟道内做较长距离的横向传输,这会带来较大的复合损耗,并显著限制响应速度。

针对这个问题,本文首先从稳态扩散方程出发,分析了扩散长度和沟道长度对器件性能的影响。理论分析表明,如果能够把载流子的输运路径从微米量级压缩到纳米量级,就有望显著提升响应速度。

基于这个思路,我们设计了一种底部金属反射增强的垂直结构器件。这个结构有两个关键点。

第一个关键点是垂直输运。它能够显著缩短载流子的渡越距离。

第二个关键点是底部金属反射与非对称电极设计。一方面,底部金属有助于增强局域光吸收;另一方面,非对称电极功函数差可以在器件内部建立内建电场,从而促进光生载流子的分离和定向输运。

7 页:工作二,垂直器件性能

从实验结果来看,所构建的垂直器件表现出了良好的综合性能。

首先,在暗态下,器件的暗电流可以低至 10 的负 12 次方安培量级,说明漏电流得到了有效抑制;同时器件具有明显的整流特性,光暗电流比可以达到 10 4 次方。

其次,在 785830 1060 纳米等不同波长照射下,器件都表现出了稳定且可重复的光开关响应,说明它在近红外波段具有较好的工作稳定性。

在动态响应方面,这部分是最关键的结果。代表性器件的上升时间约为 667 微秒,下降时间约为 921 微秒。相比同材料体系的平面器件大约 20 毫秒量级的响应时间,速度提升了约两个数量级。

这里特别需要强调的是,性能提升并不只是因为“吸收增强”。进一步分析表明,响应提速的主导因素其实是垂直结构显著压缩了载流子的渡越距离;而底部金属反射更多体现在增强吸收和提高稳态光电流幅值上。

因此,第二部分工作的意义在于:我们不仅做出了更快的器件,也较清楚地解释了为什么它会更快。

8 页:工作三,宽带边缘检测器设计

第三部分工作是在前面材料和器件基础上的进一步拓展。

我们注意到,传统光电成像系统通常是先采集整幅图像,再在数字域进行边缘提取。这种方式需要模数转换、数据存储和额外计算,因此功耗和延迟都比较高。

如果能在器件前端直接把边缘信息提取出来,就有机会把“感知”和“计算”合并在一起。

另一方面,很多重要场景信息实际上出现在近红外甚至短波红外波段,但普通半导体又会受到带隙限制,难以对亚带隙光子产生响应。

针对这两个问题,本文构建了一种基于热电子发射机制的宽带边缘检测器。其核心思路是利用金属 / 半导体界面的肖特基势垒,通过内光电发射效应实现亚带隙探测;同时利用背对背肖特基结的空间选择性收集特征,使器件直接对光强梯度,也就是边缘,更敏感。

9 页:工作三,宽带探测与边缘成像结果

这部分工作取得了三个比较关键的结果。

第一,器件实现了从可见光到短波红外的宽带响应,覆盖范围达到 520 1550 纳米,说明它成功突破了材料本征带隙带来的限制。

第二,器件在低偏压甚至零偏压条件下,仍然能够保持很低的暗电流和较低噪声。实验中,暗电流同样可以做到 10 的负 12 次方安培量级;在近红外波段,比探测率最高达到 2.89 10 11 次方 Jones,并保持了几十微秒到百微秒量级的快速响应。

第三,也是最有特色的一点,这个器件能够直接输出目标边缘。在 “C/A/S” 掩模成像实验中,器件在不依赖外加偏压、不需要模数转换、也不需要后续数字图像处理的情况下,直接输出了清晰的边缘轮廓。

这说明该器件已经不仅仅是一个探测器,而是具备了一定的模拟域前端计算能力,也就是“感算一体”的雏形。

10 页:创新点总结

基于以上工作,我认为本文主要有三点创新。

第一,提出了基于固态源的空间限域 CVD 策略,实现了 Bi3O2.5Se2 纳米片的安全、稳定和可控制备。

第二,设计并实现了底部金属反射增强的垂直光电探测器,证明了通过压缩载流子渡越距离可以显著提升二维材料器件的响应速度。

第三,构建了基于热电子发射机制的宽带边缘检测器,在单一器件中实现了宽谱探测和边缘提取,为低功耗、低延迟的感算一体硬件提供了一条可行路径。

11 页:总结与展望

最后对全文做一个总结。

本文围绕 Bi3O2.5Se2 这一 Bi 基准范德华材料,系统开展了从材料生长、器件构筑到机理分析和应用验证的一系列研究工作。

在材料层面,我们实现了高质量纳米片的可控制备;在器件层面,我们分别实现了高速垂直探测和宽带边缘检测;在机理层面,我们进一步解释了材料相调控、垂直提速和热电子发射宽带响应背后的主要物理图像。

当然,这项工作还有进一步提升空间。比如,在材料生长方面,后续还可以继续优化低温生长和产率稳定性;在器件方面,可以进一步改进转移工艺、降低界面损伤,并探索阵列化和系统级集成。

总体来说,本文验证了 Bi3O2.5Se2 在红外探测以及新型感算一体器件中的应用潜力。

我的汇报到这里结束,谢谢各位老师的聆听,恳请各位老师批评指正。

12 页:致谢备用稿

最后,向我的导师李庆研究员在课题选题、实验推进和论文撰写过程中给予的指导表示衷心感谢。

同时,也感谢课题组各位老师和同学在材料制备、器件加工、测试分析等方面给予我的帮助。

感谢各位评审老师和答辩老师的耐心聆听。

使用建议

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